ZMAREZ® 375W 具有优异的耐化学品腐蚀性能，适用于多种半导体设备的干式加工应用，这些应用要求密封性能可靠且污染程度极低。该材料在静态等离子体、干刻和扩散工艺中表现优异，最高使用温度为 250℃。
ZMAREZ® 375W 可以满足 FDA 的要求。
ZMAREZ® 375W 可加工成 O 形圈、膜片、垫圈、胶条、胶板及客户定制产品。
优异的耐化性
较低的金属离子析出
低压变
动态
舱门
摆阀、隔离阀
腔室密封
唇形密封
机械密封
泵，阀，压缩机
设备门，窗密封件
阀密封件（Slit valves）
盖板（Lid）密封件
KF 管路密封件
分析仪器
金属化（CVD, PVD, sputtering, evaporation）
薄膜沉积（CVD, PECVD, RPCVD, HDPCVD, APCVD, SACVD, DCVD）
干式等离子体蚀刻
远程等离子体清洗
干式蚀刻
离子注入
注入退火
快速热处理（RTP）
